气相沉积炉CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，主体内有加热室，水冷电极，测温热电偶，是处理工件的核心部分。气相沉积炉为沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法，也应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等。
其技术特征在于：(1)高熔点物质能够在低温下合成;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层等。
